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光电所深紫外光刻机镀膜技术研究取得新进展---

作者:admin 发布时间:2019-04-26

        

        

        
        

          193nm 光刻技术是眼前半导体勤劳的胸部安装。。为了使遭受大的数值孔径,光刻眼睛中的水晶体通常要紧性少量的凸天体。,这些球体实现光的反照角在0到60度再。。眼前,热挥发星相涂层的普通技术。;同时,球体上的获名次不同的。,高折射本领低折射本领填充物,如LaF3 和MgF2 折射本领也发作了明显代替物。,不同的反照角下宽反照角反照膜的光谱特点。

          处理大需要天体眼睛中的水晶体膜厚不匀的成绩,中国科学院光学技术论述所外衣布料上衣料结合员、中国科学院青年改革促进会社员柳存定专心于剖析天体镜片上薄膜质量和获名次的相干。天体眼睛中的水晶体不同的使成平面薄膜构造的SEM剖析,找到从激励到边缘的的获名次。,单层氟化物薄膜的柱状研制随TIL的扩大而扩大;数纸机仿照,证明了带菌者研制训练能上进地婚配涂层PR。。论述归结为显示薄膜微构造如柱状构造的倾角增大实现了折射本领非同等性从镜片激励到的空白逐步增大。相关性归结为宣布在薄膜势力视野。Thin solid films上[612,296-302(2016)]。

          193nm 减反照膜的剩余反照率和波长环形,内骨架构架是角度分辩反照环形。。(a)应用国际公约的方式设计的相干环形(黑色线)又试验测归结为(白色点);绿线是应用新训练举行反向说服的归结为。。(b)应用新训练设计光谱环形和应和的Expe。。

          因为天体LE的单层膜构造与光学质量,论述者们推荐了一种提升SPHE光谱同等性的方式。。论述撞见,氟化物多层膜的光谱特点受薄膜把持、氟化物交界面粗糙度与氟水合氢折射本领的不同等性,薄膜厚度把持器的参量实现了全部的实践值。,可以经过测独立的FIL的实践厚度来测结果。。交界面粗糙度和折射本领不同等性使遭受膜片,这是SPH不同的获名次光谱不同等性的材料原因。。论述者以为交界面粗糙度和折射本领可能性。,推荐了一种界定方法多层氟化物薄膜的更强求的训练。,在内部地交界面粗糙度经过原子力显微镜测一组膜层数量逐步扩大的战利品的使成平面粗糙度推进。交界面粗糙度与折射本领的不同等性,同样填充物不同的层间折射本领的代替物。论述归结为显示多层氟化物薄膜的交界面粗糙度和折射本领非同等性可以经过反向推演增透膜的光谱特点推进。该方式可以明显提升天体镜片上宽反照角度视野的增透膜原理设计的准确和责任感(如图),强求提升抗反照涂层的光谱同等性,在193nm大数值孔径光刻机如浸没式光刻机的镀膜等势力视野有要紧的长途客运汽车使丧失。相关性试验归结为宣布在光学定期的上。Optics Express上[26,19524 (2018)]。

          该任务受中科院青年改革促进会赞助。

         

        光电所深紫外光刻机镀膜技术论述开腰槽新使发展

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